ThermoRack 1201 / 1801 The Ultimate Rack Mount Chiller for Plasma Etch

SolidStateCoolingSystem 社のペルチェチラーは、冷凍機を搭載していないため、比較的小型で軽量、騒音・振動も極めて少ないチラーです。 フロンガス等の冷媒を使用しておらず、環境に対する悪影響もありません。

従来のチラーに比べて消費電力はわずか10%~20%程度です。 温度応答性が良く、優れた温度安定性です。

ThermoRack 1201


The Ultimate Rack Mount Chiller for Plasma Etch

ThermoRack 1201 は、半導体製造工程のプラズマエッチングにおける温度制御チラーとして最適にデザインされています。 ペルチェモジュールによる熱電原理に基づいた温度制御方式で、素早い温度応答性と高い温度安定性で冷却/加熱を制御します。 ±0.05℃ の温度安定性でウエハー間、ロット間のバラつきを改善します (First wafer effectの削減)。 また消費電力も従来のチラーに比べ、最大93%削減できます。 駆動部はポンプと冷却ファンの2つだけなので、従来のチラーと比べて騒音、振動を低減して、故障によるシステムダウンも抑えられます。 19インチラックマウントタイプのコンパクトなデザインでクリーンルームの省スペース化ができます。

アプリケーション

■ 主要エッチャーメーカーに対応
■ 光学・レーザーアプリケーション

仕様
モデル ThermoRack 1201 ThermoRack 1801
設定温度範囲 -10 ℃~80 ℃
冷却能力 1340 W(冷却水温度20 ℃) 1800 W(冷却水温度20 ℃)
加熱能力 2000 W(冷却水温度20 ℃) 2500 W(冷却水温度20 ℃)
環境温度 10 ℃~40 ℃ 
温度安定性 ±0.05 ℃ 無負荷又は負荷一定時
冷却方式 水冷方式
循環液 Galden HT series、Fluorinate FC series, NOVEC 7000 series, 純水/エチレングリコール溶液
接続口 1/2“ スウェジロック
ポンプ マグネットカップリングポンプ 14 L/min @0.21 MPa (フッ素系液使用時)
タンク容量 5.7 L  2段式 レベルセンサー
接液部材質 アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー
冷却水条件 4-8 L/min @10-35℃ (pH 6.5-8.2) 4-11 L/min @10-35℃ (pH 6.5-8.2)
外寸法(WxDxH) mm 483 x 610 x 221  5U (EIA-310-D規格)
質量 31 kg 34 kg
電源 1P 200-240 VAC  50/60 Hz  10 A max 1P 200-240 VAC  50/60 Hz  11 A max
通信インターフェィス Lam analog. AMAT CHX、TEL UnityⅡ
警報 温度、水位、システムエラー(ディスプレイ表示、ドライコンタクト出力、インターフェース出力)
規格 Semi S2-0200、F47compliant、CE、TUV listed to UL, CAN/CSA and EN 61010-1

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