フッ素系溶媒用チラー

M-75 HFE

M-75 HFE

フッ素系溶媒に対応したチラーです。 最大 1600 W の冷却能力で ±0.15℃ の温度安定性を提供します。
ThermoRack 1201 / 1801

ThermoRack 1201 / 1801

半導体製造工程のプラズマエッチングにおける温度制御チラーとして最適にデザインされています。
NIKOLA 3K / 5K

NIKOLA 3K / 5K

最大 5500 W の冷却能力で ±0.05℃ の温度安定性を提供します。 従来のチラーに比べて消費電力は60%も削減できます。
ThermoRack 1000

ThermoRack 1000

駆動部はわずか2か所なので静粛性が高く、低振動を実現し、先進的光学・レーザーのアプリケーションにて要求される温度コントロールに対応できます。
ThermoCube

ThermoCube

ささやきのような静粛性・低振動で、室温付近でさえも ±0.05℃ の温度精度を維持します。
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