半導体製造装置用チラー
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ThermoRack 1201 / 1801
半導体製造工程のプラズマエッチングにおける温度制御チラーとして最適にデザインされています。
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NIKOLA 3K / 5K
最大 5500 W の冷却能力で ±0.05℃ の温度安定性を提供します。 従来のチラーに比べて消費電力は60%も削減できます。
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ThermoRack 1000
駆動部はわずか２か所なので静粛性が高く、低振動を実現し、先進的光学・レーザーのアプリケーションにて要求される温度コントロールに対応できます。
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ThermoCube
ささやきのような静粛性・低振動で、室温付近でさえも ±0.05℃ の温度精度を維持します。
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循環冷却装置
冷却能力、ポンプ能力の向上と、各部の低騒音化に配慮した循環冷却装置です。プレート式ヒートエクスチェンジャーとホットガスバイパス方式の採用で、優れた温度安定性と温度レスポンスを実現します。
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MX500
最大 19.3 kW の冷却能力で、±0.5℃ の温度安定性を持つ水冷式循環冷却装置です。
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SWX-100
水と水による熱交換方式の循環冷却装置です。 最大 100 kW の冷却能力で ±1.0℃ の温度安定性を提供します。
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SYSTEM Ⅲ
水と水による熱交換方式の循環冷却装置です。 最大 50 kW の冷却能力で ±1.0℃ の温度安定性を提供します。
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M-75 HFE
フッ素系溶媒に対応したチラーです。 最大 1600 W の冷却能力で ±0.15℃ の温度安定性を提供します。
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