半導体製造装置用チラー

ThermoRack 1201 / 1801

ThermoRack 1201 / 1801

半導体製造工程のプラズマエッチングにおける温度制御チラーとして最適にデザインされています。
NIKOLA 3K / 5K

NIKOLA 3K / 5K

最大 5500 W の冷却能力で ±0.05℃ の温度安定性を提供します。 従来のチラーに比べて消費電力は60%も削減できます。
ThermoRack 1000

ThermoRack 1000

駆動部はわずか2か所なので静粛性が高く、低振動を実現し、先進的光学・レーザーのアプリケーションにて要求される温度コントロールに対応できます。
ThermoCube

ThermoCube

ささやきのような静粛性・低振動で、室温付近でさえも ±0.05℃ の温度精度を維持します。
循環冷却装置

循環冷却装置

冷却能力、ポンプ能力の向上と、各部の低騒音化に配慮した循環冷却装置です。プレート式ヒートエクスチェンジャーとホットガスバイパス方式の採用で、優れた温度安定性と温度レスポンスを実現します。
MX500

MX500

最大 19.3 kW の冷却能力で、±0.5℃ の温度安定性を持つ水冷式循環冷却装置です。
SWX-100

SWX-100

水と水による熱交換方式の循環冷却装置です。 最大 100 kW の冷却能力で ±1.0℃ の温度安定性を提供します。
SYSTEM Ⅲ

SYSTEM Ⅲ

水と水による熱交換方式の循環冷却装置です。 最大 50 kW の冷却能力で ±1.0℃ の温度安定性を提供します。
M-75 HFE

M-75 HFE

フッ素系溶媒に対応したチラーです。 最大 1600 W の冷却能力で ±0.15℃ の温度安定性を提供します。
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